ASPCMS官网,ASPCMS社区,ASPCMSapp下载
  •  首页
  •  热点
  •  百科
  •  娱乐
  •  科技
  •  资讯
  •  药品
  •  美容
  •  时尚
  •  登录
  1. 标签
  2. 光掩模
  • 日本 DNP 成功绘制 2nm 及以下工艺所需光掩模图案,出样 High NA 兼容光掩模

    DNP 成功在其光掩模制品上绘制了支持先进制程的直线与复杂曲线图案,该产品有望用于 Rapidus 的 2nm 产线。
    DNP光掩模先进制程
    fjmyhfvclm4月前
    750
CopyRight © 2025 All Rights Reserved
Processed: 0.037, SQL: 4