上海高梵申请可消除褶皱的服装面料反光测试装置专利,保证面料在测试中处于平整的状态
2025-06-07
金融界2025年6月6日消息,国家知识产权局信息显示,上海高梵科技有限公司申请一项名为“一种可消除褶皱的服装面料反光测试装置”的专利,公开号CN120102520A,申请日期为2025年03月。
专利摘要显示,本发明公开了面料测试技术领域的一种可消除褶皱的服装面料反光测试装置,包括:底座,所述底座上设有沿面料移动方向依次分布的消皱组件、压紧组件与测试设备;所述压紧组件包括支架、滑动设在支架上的张紧压板以及与张紧压板连接的弹性件;所述消皱组件用于消除面料上的杂质与褶皱,所述弹性件用于对张紧压板提供作用力,使张紧压板移动对面料进行施压,将传输的面料绷紧后,导入到测试设备中进行反光测试;本发明通过弹性件对张紧压板施加作用力,使张紧压板移动对面料进行施压,将面料绷紧后,导入到测试设备中进行反光测试,保证面料在测试中处于平整的状态,确保面料反光测试的精确性。
天眼查资料显示,上海高梵科技有限公司,成立于2024年,位于上海市,是一家以从事科技推广和应用服务业为主的企业。企业注册资本100万人民币。通过天眼查大数据分析,上海高梵科技有限公司专利信息11条。